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大电流电镀低应力酸铜工艺(TC-200,可搭配光诱导工艺、不溶性阳极);硫酸体系电镀纯锡工艺(Solder-596);甲基磺酸体系大电流低应力电镀纯锡工艺(HMT100);大电流电
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NI-2006HSX使用可溶性阳极的镀镍工艺NI-2006HSX是氨基磺酸盐型镀镍工艺,可产生低应力的,半光亮的,延展性的镍镀层。本工艺尤其适用于作为贵金属和非贵金属电镀的底层
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